大鹏展翅，御风而行——御微半导体首台掩模版图形缺陷检测设备成功交付客户
2025年新春伊始，御微半导体技术有限公司自主研发的国内首台满足90nm以上制程掩模图形缺陷检测设备Raptor-500正式发运并交付国内领先掩模版制造厂商。该设备的成功交付，标志着御微半导体在核心检测设备领域实现关键突破，为成熟制程掩模质量控制提供极具竞争力的国产化解决方案。
破解“绝对零缺陷”难题，守护半导体制造“母版”
掩模版，又称“光罩”或“Photomask”，是集成电路光刻工艺的“母版”，其质量直接影响晶圆良率。单个掩模图形缺陷即可导致整批晶圆报废，因此掩模版图形缺陷检测设备需实现关键缺陷100%的检出率。Raptor-500基于御微在高精密半导体光学设备领域的技术积淀，创新融合“高分辨率透射+反射双光路同步紫外成像技术”,“纳米级运动控制技术“及”超大规模图像计算技术 ”，可精准识别掩模版制造及光刻工艺使用周期中的图形缺陷与污染物，满足掩模厂与晶圆厂的全链条质控需求。
御微半导体首台掩模版图形缺陷检测设备Raptor-500
双场景应用，覆盖掩模版全生命周期
掩模制造场景：在新掩模版制作完成后及返修清洁环节，Raptor-500可快速筛查图形缺陷，指导客户后续修复及清洗工序，避免因漏检关键缺陷导致的下游客户晶圆报废，显著提升掩模版出货质量，降低客户生产成本。
晶圆生产场景：通过监控掩模版入厂状态及定期健康状态检测，提前预警污染及雾状缺陷（Haze）风险，助力产线光刻工艺良率，保障晶圆制造稳定性。
御微掩模全生命周期质量控制产品布局
降本增效，构建国产检测生态闭环
御微半导体作为国内特色深耕掩模质量控制的高新技术企业，持续布局“掩模全生命周期质控”全面解决方案，以满足掩模制造及晶圆生产需求。御微先后发布了i6R系列产品（掩模出货及光刻前后质量控制）及Halo系列产品（空白基版质量控制），并已逐步成为行业相关工序的标杆装备。本次发运的Raptor-500是御微掩模质量控制的第三款核心设备，Raptor-500与i6R及Halo产品协同，提供从基版到成品的“一站式掩模零缺陷”解决方案。Raptor产品系列采用模块化架构设计兼具高性能，高产率及高延展性，可分担高成本设备产能压力，帮助客户降低运营成本，并可长期为客户制程升级提供价值。
御微使命，国产替代进程再加速
御微Raptor产品事业部总经理聂秋平表示：“Raptor-500产品可以为业界提供满足成熟制程需求的掩模版图形缺陷检测解决方案。该设备填补了相关检测设备的长期市场空白，并且可用更有竞争力的成本替换客户现有设备产能，从而降低客户运营成本，提升客户产品竞争力。”
御微公司总经理王帆博士称：“我们很高兴可以为广大掩模版以及晶圆制造客户提供一款极具竞争力的掩模版质量管控设备。Raptor-500产品是御微在掩模全生命周期质量控制整体解决方案中重要的一环，配合i6R和Halo形成一站式掩模零缺陷检测监管和质量控制标准，能够更好地为产业客户提供价值。”
大鹏展翅，御风而行
御微将持续加大研发投入，深入剖析客户痛点和需求，不断开发出满足客户要求的新产品，夯实掩模版全生命周期质量管控产品线，填补国内相关半导体设备领域的空白，为广大客户创造更高价值。
关于御微半导体
御微半导体技术有限公司聚焦半导体检测与量测设备研发，致力于为晶圆制造、掩模版制造及封装领域提供高精度解决方案。公司已获多项国家级专精特新企业认证，产品覆盖国内主流半导体厂商，设备累计出货量超百台。
撰稿：归文斌
